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氮化鎵晶片GaN

氮化鎵晶片GaN

北京特博萬德供應(yīng)純GaN氮化鎵晶片。
尺寸10*10.5mm,更大尺寸也可供應(yīng)。
GaN氮化鎵晶片常用于發(fā)光二極管的二元III / V直接帶隙半導(dǎo)體。該化合物是一種非常堅(jiān)硬的材料,具有纖鋅礦晶體結(jié)構(gòu)。其3.4 eV的寬帶隙為光電,高功率和高頻器件的應(yīng)用提供了特殊的性能。例如,GaN是使紫色(405nm)激光二極管成為可能的基板,而不使用非線性光學(xué)倍頻。它對(duì)電離輻射的敏感性很低(與其他III族氮化物一樣),使其成為衛(wèi)星太陽能電池陣列的合適材料。由于設(shè)備在輻射環(huán)境中表現(xiàn)出穩(wěn)定性,因此軍事和太空應(yīng)用也可能受益。由于GaN晶體管可以在更高的溫度下工作,并且工作電壓比砷化鎵(GaAs)晶體管高得多,因此它們可以在微波頻率下制造理想的功率放大器。此外,GaN為THz器件提供了有前景的特性。

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商品描述

北京特博萬德供應(yīng)純GaN氮化鎵晶片。
尺寸10*10.5mm,更大尺寸也可供應(yīng)。
GaN氮化鎵晶片常用于發(fā)光二極管的二元III / V直接帶隙半導(dǎo)體。該化合物是一種非常堅(jiān)硬的材料,具有纖鋅礦晶體結(jié)構(gòu)。其3.4 eV的寬帶隙為光電,高功率和高頻器件的應(yīng)用提供了特殊的性能。例如,GaN是使紫色(405nm)激光二極管成為可能的基板,而不使用非線性光學(xué)倍頻。它對(duì)電離輻射的敏感性很低(與其他III族氮化物一樣),使其成為衛(wèi)星太陽能電池陣列的合適材料。由于設(shè)備在輻射環(huán)境中表現(xiàn)出穩(wěn)定性,因此軍事和太空應(yīng)用也可能受益。由于GaN晶體管可以在更高的溫度下工作,并且工作電壓比砷化鎵(GaAs)晶體管高得多,因此它們可以在微波頻率下制造理想的功率放大器。此外,GaN為THz器件提供了有前景的特性。


Conduct Type

Semi-Insulating

N

N

Type/Dopant

Fe

Ge

Undoped

Size

10*10.5 mm,50.8± 0.1 mm

Orientation

C-plane (0001) off angle toward M-Axis0.35°±0.15°  

Total Thickness

350 ± 25 μm

Surface front

Polished

OF location/length

(1-100) ± 0.5°/16.0 ± 1.0 mm

IF location/length

(11-20) ± 3°/ 8.0 ± 1.0 mm

Resistivity300K

>1E6 ohm·cm

<0.05 ?·cm

<0.5 ?·cm

EPD

(1~9)E5/ cm2

5E5~3E6/ cm2

1~3E6/ cm2

Ingot CC

>6E16/cm3

Ra(nm)

Front surface Ra<0.2nm

TTV(um)

<15

BOW(um)

<20

Warp(um)

<20

Epi-ready

Yes

Package

Single in 100 class room