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1.勻膠工藝

可以提供正膠或負(fù)膠的薄膠/厚膠的涂膠工藝；

2.紫外光刻工藝

 周期性光柵，最小線寬2微米；高寬比可以達(dá)到20；

3.刻蝕工藝

深硅刻蝕；二氧化硅刻蝕；金屬刻蝕等；

4.電子束光刻

 納米電極，納米結(jié)構(gòu)的制備工藝；

5.鍍膜

1）金屬鍍膜： 磁控濺射、離子束濺射、熱蒸發(fā)：金、鉑、銀、銅、鈦、鉻、鎳等；
2）鈍化膜： 氧化膜（濕氧、干氧、干濕結(jié)合、高壓氧化、PECVD）；氮化膜（LPCVD、PECVD）；
3）光學(xué)膜： 反射膜、增透膜；

6.電鍍或電鑄工藝

提供金屬模具的制備

7.切割服務(wù)

 激光切割及隱形切割、穿孔，按圖紙加工各種形狀；

8.加工服務(wù)

 研磨+拋光+腐蝕+鍵合+切割+減薄+光刻+涂層+外延+離子注入服務(wù)等。 

9.微納光子器件制備

包括：
1）高精度EBL曝光和刻蝕工藝，可加工高質(zhì)量納米光子器件。（加工線寬低達(dá)30nm）
2）成熟的基于SU8聚合物材料的光子器件加工能力。（加工線寬低達(dá)2um）
3）成熟的氮化硅光子器件加工能力。（加工線寬可達(dá)2um）
4）以上器件均可制備配套的金屬電極等。